Центрифуга ASC-200D / ASC-300D

Установка проявления фоторезиста выполнена на базе настольной центрифуги ASC-200 / ASC-300 и оснащается системой для автоматической подачи проявителя. Установка позволяет обрабатывать подложки размером до 300 мм. Управление происходит с помощью программируемого логического контроллера с цветным сенсорным экраном, на котором отображается диаграмма процесса в реальном времени. Внутренняя память позволяет сохранять до 100 рецептов и до 100 шагов в каждом рецепте.

Процесс проявления фоторезиста заключается в растворении и удалении ненужных участков фоторезиста с поверхности пластины. При использовании позитивного фоторезиста — удаляются засвеченные УФ-излучением участки, при использовании негативного — удаляются незасвеченные участки. После проявления на пластине образуется защитный рельеф — фоторезистивная маска требуемой конфигурации. Основными способами проявления являются: погружение пластины в раствор проявителя и распыление проявителя на вращающуюся пластину. При применении второго способа используют специальные установки-центрифуги (developers) с системой автоматической подачи проявителя. В такой установке пластина удерживается с помощью вакуумного держателя и вращается, а проявитель под давлением подается на пластину. После проявления пластина промывается деионизованной водой и сушится.