Установка проявления фоторезиста ASC-200D / ASC-300D

Установка проявления фоторезиста выполнена на базе настольной центрифуги ASC-200 / ASC-300, которая оснащается системой для автоматической подачи проявителя из канистры под давлением. Установка позволяет обрабатывать подложки размером до 200 / 300 мм. Управление происходит с помощью программируемого логического контроллера с цветным сенсорным экраном, на котором отображается диаграмма процесса в реальном времени. Внутренняя память позволяет сохранять до 100 рецептов и до 100 шагов в каждом рецепте.

Процесс проявления фоторезиста заключается в растворении и удалении ненужных участков фоторезиста с поверхности пластины, после чего на пластине образуется защитный рельеф — фоторезистивная маска требуемой конфигурации. Основными способами проявления являются: погружение пластины в раствор проявителя и распыление проявителя на вращающуюся пластину. Проявление погружением, не смотря на простоту способа, не обеспечивает полного удаления фоторезиста в случаях, когда необходимо воспроизвести элементы размером несколько единиц микрон и меньше. Для таких задач более эффективным является метод распыления проявителя на специальной установке-центрифуге (developer).