Система отмывки и сушки пластин SV-702

  • Размер обрабатываемых пластин: 50–150 мм;
  • Загрузка: 1 кассета (пластины 50–150 мм) или 4 кассеты (пластины 50 мм);
  • Отмывка в деионозованной воде;
  • Сушка: центробежная, подача азота, подача нагретого азота;
  • Скорость вращения ротора-держателя: до 2 800 об/мин;
  • Производительность: от 300 до 600 пластин в час;
  • Модификации: настольная с одной камерой, напольная с одной камерой, напольная с двумя камерами.

Система отмывки и сушки пластин SV-802

  • Размер обрабатываемых пластин: 200 мм;
  • Загрузка: 1 кассета;
  • Отмывка в деионозованной воде;
  • Сушка: центробежная, подача азота, подача нагретого азота;
  • Скорость вращения ротора-держателя: до 2 800 об/мин;
  • Производительность: от 300 до 600 пластин в час;
  • Модификации: с одной камерой, с двумя камерами.

Система отмывки и сушки пластин SV-300

  • Размер обрабатываемых пластин: 300 мм;
  • Загрузка: 1 кассета;
  • Отмывка в деионозованной воде;
  • Сушка: центробежная, подача азота, подача нагретого азота;
  • Скорость вращения ротора-держателя: до 2 800 об/мин;
  • Производительность: от 300 до 600 пластин в час.

Высокопроизводительная система отмывки и сушки пластин SH-801

  • Размер обрабатываемых пластин: 50–150 мм;
  • Загрузка: 6 кассет (пластины 50–100 мм) или 4 кассеты (пластины 150 мм);
  • Отмывка в деионозованной воде;
  • Сушка: центробежная, подача азота, подача нагретого азота;
  • Максимальная скорость вращения ротора-держателя 1 500 об/мин;
  • Производительность: от 600 до 900 пластин в час.

В процессе изготовления устройств микроэлектроники, полупроводниковые пластины на разных этапах технологического процесса подвергаются жидкостной химической обработке с целью удаления с их поверхности различных загрязнений. Критичной операцией после взаимодействия пластин с химическими реагентами, является их отмывка в очищенной деионизованной воде и последующая сушка.