Установки отмывки и сушки пластин в кассетах - SRD

В процессе изготовления устройств микроэлектроники, полупроводниковые пластины на разных этапах технологического процесса подвергаются жидкостной химической обработке с целью удаления с их поверхности различных загрязнений. После взаимодействия с химическими реагентами пластины отмываются в деионизованной воде и сушатся на специальных установках типа SRD (Spin Rinse Dryer).

Компания Advanced Spin System Inc. предлагает системы различных модификаций: настольного и напольного типа, с одной и двумя камерами, с фронтальной и вертикальной загрузкой. В зависимости от модификации производительность может составлять от 300 до 2 400 пластин в час. Таким образом, системы отмывки и сушки пластин ASSI подходят как для лабораторий, так и для серийных производств, и могут использоваться в чистых помещениях.