Термическая сушка фоторезиста проходит на разных стадиях: предварительная сушка, постэкспозиционная сушка (до проявления), задубливание (сушка после проявления). На каждой стадии подбирается определенная температура и время сушки, которые в значительной степени влияют на такие важные показатели фоторезиста, как время его экспонирования и точность передачи размеров элементов после проявления. Нагревательные плиты (hot plate) широко используются для процесса сушки фоторезиста, но также применяются для других работ, требующих поддержания точной температуры.
